Ni2W2SiC納米復(fù)合涂層技術(shù)是最新的并且比原始技術(shù)更好

[文本]納米SiC王金春等人通過電沉積制備了Ni2W2SiC納米復(fù)合涂層。涂層表面光滑且光滑，微觀結(jié)構(gòu)均勻且致密。與純鎳涂層相比，其顯微硬度得到了顯著提高。還研究了陰極電流密度對(duì)沉積的復(fù)合材料數(shù)量和涂層形態(tài)的影響。劉延軍的研究發(fā)現(xiàn)，與純金鎳鍍層相比，Ni2W2SiC納米復(fù)合鍍層的顯微硬度得到了極大的提高。 P.Gyftou等。通過脈沖電鍍制成Ni2SiC復(fù)合涂層。通過比較1um和20nm的SiC顆粒，發(fā)現(xiàn)納米晶SiC復(fù)合涂層具有相同的晶體取向，而前者是任意的。性能測(cè)量表明該復(fù)合涂層是耐磨的。耐蝕性與共沉積顆粒的大小，復(fù)合材料的沉積量以及顆粒在涂層金屬相中的分布有關(guān)。 Benea等。還通過脈沖電鍍制備了復(fù)合Ni2SiC（一次粒徑為20nm）復(fù)合涂層。研究發(fā)現(xiàn)，納米SiC復(fù)合涂層的晶粒尺寸小于純鎳層，并且納米SiC顆粒破壞了表面結(jié)構(gòu)。鎳基晶體的生長(zhǎng)是非晶結(jié)構(gòu)。這表明添加的納米顆?？赏ㄟ^防止晶體生長(zhǎng)來增加成核次數(shù)，從而獲得較小尺寸的涂層，其具有比普通鎳鍍層更好的耐磨性和耐腐蝕性。納米SiO 2文獻(xiàn)9在文獻(xiàn)中報(bào)道了通過脈沖電鍍制備Ni 2 P 2 SiO 2納米復(fù)合涂層，并且與通過DC電鍍獲得的Ni 2 P涂層相比，發(fā)現(xiàn)前者具有更多的微細(xì)晶體，更少的空隙和更高的硬度。同時(shí)，研究了平均電流密度，脈沖時(shí)間，占空比，溫度，攪拌方式和SiO2（6-7nm）的添加量對(duì)涂層的沉積速率，涂層硬度和SiO2組成的影響，并得出通過正交實(shí)驗(yàn)確定。工藝條件。 Co2納米金剛石復(fù)合涂層已應(yīng)用于發(fā)動(dòng)機(jī)級(jí)之間的密封圈和摩托車氣缸體的復(fù)合涂層。它可以承受高于500°C的高溫，并且使用壽命更長(zhǎng)。許多研究發(fā)現(xiàn)，與普通涂料相比，納米粒子和基質(zhì)金屬是兩個(gè)不同的相。納米粒子的存在使基質(zhì)金屬的沉積晶體更加精細(xì)，甚至可以達(dá)到納米級(jí)。由于納米顆粒的獨(dú)特性質(zhì)，納米復(fù)合涂層具有更高的硬度和更好的耐腐蝕性，并且隨著納米顆粒的粒徑減小和沉積的復(fù)合物數(shù)量增加，其性能通常變得更高。優(yōu)秀。影響納米復(fù)合電鍍涂層性能的因素電流密度在復(fù)合電鍍中，隨著電流密度的增加，復(fù)合涂層的沉積速率，復(fù)合的納米顆粒的數(shù)量以及涂層的硬度都會(huì)增加，同時(shí)會(huì)影響形貌涂層的組成和均勻性。但是，當(dāng)電流密度達(dá)到一定值時(shí)，電流密度繼續(xù)增加，納米顆粒的復(fù)合量和涂層的硬度降低。因此，選擇合適的電流密度可以制備出形貌好，組成均勻，硬度高的納米復(fù)合涂層。結(jié)論添加納米粒子可以顯著提高復(fù)合涂層的硬度和耐蝕性，可以節(jié)省材料并減少污染。因此，納米復(fù)合鍍技術(shù)的研究與應(yīng)用具有廣闊的發(fā)展前景。由于人們對(duì)納米材料認(rèn)識(shí)的局限性以及復(fù)合鍍層技術(shù)研究的不完善，納米復(fù)合鍍層技術(shù)的研究才剛剛開始。納米粒子與金屬粒子的共沉積機(jī)理，納米粒子在電鍍液中的穩(wěn)定性和分散性，如何增加復(fù)合涂層中納米粒子的含量以及納米粒子在涂層中的行為與性能的關(guān)系涂層需要進(jìn)一步研究。英德pth研究。